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  • OYS-1200C-ⅢCVD系統管式爐
    CVD系統管式爐是一種重要的材料制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之中。它主要用于在固態基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統。
    更新時間：2024-10-31型號：OYS-1200C-Ⅲ廠商性質：生產廠家
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  • CVD系統
    管式爐搭配質子（浮子）供氣系統真空系統和分子泵機組，形成高真空CVD系統。CVD系統管式爐是一種重要的材料制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之中。它主要用于在固態基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統。
    更新時間：2025-01-08型號：廠商性質：生產廠家
    現在聯系
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